産官学が連携をして最先端の技術を研究
慶應義塾大学新川崎タウンキャンパス 事務長 森澤様
慶應義塾大学理工学部教授 奥田知明先生にインタビュー
マスクの外側と内側の粒子を測定
マスクと顔に隙間があると意外と深刻!そこでマスクのフィット感を
向上させるカバー、マスピタを開発
かわさきFM(79.1MHz)毎週金曜 22:00~22:30
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